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雾霾引发过滤器新革命

[本文作者:] [发布时间2014-10-27] [浏览次数:3384]

雾霾引发科技创新

():技术概念 PM 2.5雾霾与雾)

2_B.jpg

():193 nm制程:193 nm制程是指光刻技术的光源波长为193 nm,光学光刻的极限分辨率可以达到光源波长的1/2,即为0.1 µm。在此波段上光波频率极易被微量的挥发性碳氢化合物所吸收,减少激光穿越强度。 SO2 / NO2 O3生成硫酸盐、硝酸盐沉积于光刻机镜片表面,造成镜片雾化。光刻胶对NH3NMP较为敏感,易在晶圆片上形成“T-top”现象。

污染  

污染源

危害  

颗粒度

主要成分

控制值

特性

AMC

室外新风、室内释气  人员携带、制程用料

产品质量

纳米级  0.2 nm~5nm

酸性物质、  碱性物质、  有机化合物、  掺杂物质、  其它:H2O2O3  溶剂。

ppb~ppt

服务于IC产品,控制要  求,根据制程水平。  使用化学过滤器、化学  滤网。

大气雾霾

化石燃料燃烧排放  (冬季采暖) * 机动车尾气  (硫化物、NOxVOCs ……)  工业烟尘  (电厂、钢厂、水泥厂)  垃圾处理、麦秸焚烧

人的健康

微米级  PM 2.5  2.5 µm

烟尘NoxSO2  COCO2NH3  VOCs、水蒸汽

35 µg/m3(年均)  75 µg/m3 24小时均值)  北京冬季高污染天气:  700 µg/m3~800 µg/m3

既有APC又有AMC。细  颗粒物与气态污染物  Nox SO2 VOCs NH3   )存在复杂的相互  转化。

注:* 北京有机动车500万辆。河北省2012年钢铁产量2.7亿吨,相当于欧盟国家的产量(德国只有5000万吨)。

(三):空气分子污染AMCAirborne Molecular Contamination   污染物颗粒度< 0.01 µm ,通常在0.2 nm~5 nm以蒸汽或  气态状态存在,可以穿透常规HEPAULPA

 (1) 年平均限值35 µg/m310%新风,气态污染物30%   35 µg/m3×10% ×30% 1 µg/m3   满足线宽0.01 µm IC AMC要求。

 (2) 24小时平均限制75 µg/m310%新风,气态污染物30%   75 µg/m3×10% ×30%=3.25 µg/m3   只能满足线宽0.13 µm IC AMC要求。

 (3) 20131月北京地区小时最大值高灰900 µg/m3   10%新风,气态污染物30%   900 µg/m3×10% ×30%=27 µg/m3   只能满足线宽0.25 µm IC AMC要求。

ITRS 对不同线宽制程污染物控制标准(1999年)[1]

污染化合物类型

集成电路线宽

0.25 µm

0.18µm

0.13 µm

0.10 µm

VOCsµg/m3

30

10

3.0

1.0

离子化合物(µg/m3

1

0.3

0.10

0.03

总碳氢化合物(ppb 

10

3.0

1.0

0.30

金属(ppt  

0.1

0.03

0.01

0.00

ITRS International Technology Roadmap for Semiconductor  国际半导体技术路线(组织)

(四):雾霾的成分复杂:有细颗粒物、气态污染物(NOx SO2VOCs NH3)以及其复杂的相互转化。不同地区污染物的比例不相同,与其来源有关:机动车、扬尘、燃煤、工业排放。

2C.jpg


 2A.jpg

2D9.jpg

 

(五):空气分子污染AMCAirborne Molecular Contamination  

污染物颗粒度< 0.01 µm ,通常在0.2 nm~5 nm以蒸汽或  气态状态存在,可以穿透常规HEPAULPA 

(1)年平均限值35 µg/m310%新风,气态污染物30%  35 µg/m3×10% ×30% 1 µg/m3 满足线宽0.01 µm IC AMC要求。

   (2) 24小时平均限制75 µg/m310%新风,气态污染物30%  75 µg/m3×10% ×30%=3.25 µg/m3 只能满足线宽0.13 µm IC AMC要求。

(3) 20131月北京地区小时最大值高灰900 µg/m3 10%新风,气态污染物30%   900 µg/m3×10% ×30%=27 µg/m3   只能满足线宽0.25 µm IC AMC要求。

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